Silicia Karburo Tegita Epitaxial Reactor Barelo

Silicia Karbido Tegita Epitaksa Reaktora Barelo Elstara Bildo

Mallonga priskribo:

Semicera estas altteknologia entrepreno okupiĝanta pri materiala esplorado dum multaj jaroj, kun gvida R&D-teamo kaj integra R&D kaj fabrikado.Provizi personigitan Silician Carbide Tegitan Epitaxial Reactor Barelon diskuti kun niaj teknikaj fakuloj kiel akiri la plej bonan rendimenton kaj merkatan avantaĝon por viaj produktoj.

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Kial estas tegaĵo de silicio-karburo?

En la duonkondukta kampo, la stabileco de ĉiu komponanto estas tre grava por la tuta procezo.Tamen, en alt-temperatura medio, grafito estas facile oksidita kaj perdita, kaj SiC-tegaĵo povas provizi stabilan protekton por grafitaj partoj.En laSemicerateamo, ni havas nian propran grafitan purigan pretigan ekipaĵon, kiu povas kontroli la purecon de grafito sub 5ppm.La pureco de la tegaĵo de silicio-karburo ankaŭ estas sub 5ppm.

Nia avantaĝo, kial elekti Semicera?

✓Paltkvalita en ĉina merkato

✓Bona servo ĉiam por vi, 7*24 horoj

✓ Mallonga dato de livero

✓Malgranda MOQ bonvena kaj akceptita

✓ Propraj servoj

Apliko

Epitaksio Kresko Susceptor

Siliciaj/silicikarburaj oblatoj bezonas trapasi plurajn procezojn por esti uzataj en elektronikaj aparatoj.Grava procezo estas silicio/sic epitaksio, en kiu silicio/sic-oblatoj estas portitaj sur grafita bazo.Specialaj avantaĝoj de la grafita bazo de silicio-karbido kovrita de Semicera inkluzivas ekstreme altan purecon, unuforman tegaĵon kaj ekstreme longan funkcidaŭron.Ili ankaŭ havas altan kemian reziston kaj termikan stabilecon.

Silicia Epitaksio-Susceptor

Silicia Carbide Epitaksio Susceptor

LED-Breto-Produktado

Dum la ampleksa tegaĵo de la MOCVD-reaktoro, la planeda bazo aŭ portanto movas la substratoblaton.La agado de la baza materialo havas grandan influon sur la tegaĵokvalito, kiu siavice influas la forĵetaĵon de la blato.La bazo de silicio-karbid-tegita de Semicera pliigas la fabrikan efikecon de altkvalitaj LED-oblatoj kaj minimumigas ondolongan devion.Ni ankaŭ provizas pliajn grafitajn komponantojn por ĉiuj MOCVD-reaktoroj nuntempe uzataj.Ni povas kovri preskaŭ ajnan komponanton per silicia karbura tegaĵo, eĉ se la komponenta diametro estas ĝis 1.5M, ni ankoraŭ povas kovri per silicia karbido.

LED Epitaxy Susceptor

Semikondukta Kampo, Oksidada Disvastigo, Ktp.

En la procezo de duonkonduktaĵo, la procezo de ekspansio de oksigenado postulas altan purecon de la produkto, kaj ĉe Semicera ni ofertas kutimajn kaj CVD-kovrajn servojn por la plimulto de partoj de silicio-karburoj.

La sekva bildo montras la krude prilaboritan silicikarburan suspensiaĵon de Semicea kaj la silicikarbidforntubon, kiu estas purigita en la 100.0-nivelosenpolvaĉambro.Niaj laboristoj laboras antaŭ tegado.La pureco de nia siliciokarbido povas atingi 99,98%, kaj la pureco de sic-tegaĵo estas pli granda ol 99,9995%..