SiC-Oblato-Boato
Silicikarbura oblato boatoestas ŝarĝa aparato por oblatoj, ĉefe uzata en sunaj kaj duonkonduktaĵoj disvastigprocezoj.Ĝi havas karakterizaĵojn kiel eluziĝo-rezisto, koroda rezisto, alt-temperatura efiko-rezisto, rezisto al plasmobombado, alta temperatura portanta kapacito, alta varmokondukteco, alta varmo disipado, kaj longtempa uzo kiu ne estas facile fleksi kaj deformi.Nia kompanio uzas altpuran silician karburan materialon por certigi servodaŭron kaj provizas personecigitajn dezajnojn, inkluzive.diversaj vertikalaj kaj horizontalajolata boato.
SiC Padelo
Lasiliciokarbura kantilevra padeloestas ĉefe uzata en la (disvastigo) tegaĵo de siliciaj oblatoj, kiu ludas decidan rolon en la ŝarĝo kaj transportado de siliciaj oblatoj ĉe alta temperaturo.Ĝi estas ŝlosila komponanto deduonkondukta oblatoŝarĝaj sistemoj kaj havas la sekvajn ĉefajn trajtojn:
1. Ĝi ne deformas en altaj temperaturoj kaj havas altan ŝarĝan forton sur la oblatoj;
2. Ĝi estas imuna al ekstrema malvarmo kaj rapida varmo, kaj havas longan servon;
3. La termika ekspansio koeficiento estas malgranda, tre etendante la prizorgadon kaj purigadon, kaj signife reduktas malpurigaĵojn.
SiC Forna Tubo
Proceza tubo de siliciokarburo, farita el altpura SiC sen metalaj malpuraĵoj, ne poluas la oblaton, kaj taŭgas por procezoj kiel semikonduktaĵo kaj fotovoltaeca disvastigo, kalciado kaj oksigenado.
SiC Robota Brako
SiC robotbrako, ankaŭ konata kiel oblata transiga fino-efektoro, estas robotbrako uzita por transporti semikonduktaĵvafojn kaj estas vaste uzita en la semikonduktaĵo, optoelektronikaj, kaj sunenergiindustrioj.Uzante altpuran silician karbon, kun alta malmoleco, eluziĝo-rezisto, sisma rezisto, longdaŭra uzo sen deformado, longa funkcidaŭro, ktp, povas provizi personecigitajn servojn.
Grafito por kristala kresko
Grafita varmoŝildo
Grafita elektrodotubo
Grafita deflector
Grafita mandrilo
Ĉiuj procezoj uzataj por kreskigado de duonkonduktaĵoj funkcias en alt-temperaturaj kaj korodaj medioj.La varmega zono de la kristala kreska forno estas kutime eguinnita kun varmorezista kaj korodrezista alta pureco.grafitaj komponantoj, kiel grafitaj hejtiloj, fanduloj, cilindroj, deflankiloj, chucks, tuboj, ringoj, teniloj, nuksoj, ktp. Nia finita produkto povas atingi cindron enhavon malpli ol 5ppm.
Grafito por Semikonduktora Epitaksio
Grafita Bazo
Grafito Epitaxial Barelo
Monocry Stalline Silicon Epitaxial Base
MOCVD Grafitaj Partoj
Semikondukta Graphite Fixture
Epitaksia procezo rilatas al la kresko de ununura kristala materialo sur ununura kristala substrato kun la sama kradaranĝo kiel la substrato.Ĝi postulas multajn ultra-altajn purecajn grafitajn partojn kaj grafitan bazon kun SIC-tegaĵo.La alta pureca grafito uzata por duonkondukta epitaksio havas ampleksan gamon de aplikoj, kiuj povas egali plej ofte uzatajn ekipaĵojn en la industrio, samtempe ĝi havas ekstreme altan.pureco, unuforma tegaĵo, bonega servodaŭro, kaj ekstreme alta kemia rezisto kaj termika stabileco.
Izola Materialo kaj aliaj
Termizolaj materialoj uzataj en produktado de duonkonduktaĵoj estas grafitaj malmolaj feltoj, mola felto, grafita folio, karbonaj kunmetitaj materialoj, ktp. Niaj krudaĵoj estas importitaj grafitaj materialoj, kiuj povas esti tranĉitaj laŭ la specifo de klientoj, kaj ankaŭ povas esti venditaj kiel. tutaj.Karbona kunmetaĵmaterialo estas kutime utiligita kiel portanto por suna monokristala kaj polisilicia ĉela produktadprocezo.