Silicia Karburo Epitaksio

Mallonga Priskribo:

Silicia Karburo Epitaksio- Altkvalitaj epitaksaj tavoloj adaptitaj por altnivelaj duonkonduktaĵoj, proponante superan rendimenton kaj fidindecon por potenca elektroniko kaj optoelektronikaj aparatoj.


Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Tiu de SemiceraSilicia Karburo Epitaksioestas realigita por renkonti la rigorajn postulojn de modernaj semikonduktaĵaplikoj. Uzante altnivelajn epitaksiajn kreskoteknikojn, ni certigas, ke ĉiu siliciokarburtavolo elmontras esceptan kristalan kvaliton, unuformecon kaj minimuman difektan densecon. Ĉi tiuj karakterizaĵoj estas decidaj por evoluigado de alt-efikeca potencelektroniko, kie efikeco kaj termika administrado estas plej gravaj.

LaSilicia Karburo Epitaksioprocezo ĉe Semicera estas optimumigita por produkti epitaksiajn tavolojn kun preciza dikeco kaj dopa kontrolo, certigante konsekvencan agadon tra gamo da aparatoj. Ĉi tiu nivelo de precizeco estas esenca por aplikoj en elektraj veturiloj, renoviĝantaj energiosistemoj kaj altfrekvencaj komunikadoj, kie fidindeco kaj efikeco estas kritikaj.

Cetere, tiu de SemiceraSilicia Karburo Epitaksioofertas plibonigitan termikan konduktivecon kaj pli altan paneotension, igante ĝin la preferata elekto por aparatoj kiuj funkcias sub ekstremaj kondiĉoj. Ĉi tiuj propraĵoj kontribuas al pli longaj aparataj vivdaŭroj kaj plibonigita totala sistema efikeco, precipe en alt-potencaj kaj alt-temperaturaj medioj.

Semicera ankaŭ disponigas personigajn elektojn porSilicia Karburo Epitaksio, ebligante tajloritajn solvojn, kiuj plenumas specifajn aparatpostulojn. Ĉu por esplorado aŭ grandskala produktado, niaj epitaksaj tavoloj estas dezajnitaj por subteni la venontan generacion de semikonduktaĵaj novigoj, ebligante la disvolviĝon de pli potencaj, efikaj kaj fidindaj elektronikaj aparatoj.

Integrante avangardan teknologion kaj striktajn kvalitkontrolajn procezojn, Semicera certigas, ke niaSilicia Karburo Epitaksioproduktoj ne nur renkontas sed superas industriajn normojn. Ĉi tiu engaĝiĝo al plejboneco igas niajn epitaksiajn tavolojn la ideala fundamento por altnivelaj duonkonduktaĵaplikoj, pavimante la vojon por sukcesoj en potenca elektroniko kaj optoelektroniko.

Eroj

Produktado

Esploro

Dummy

Kristalaj Parametroj

Politipo

4H

Eraro de surfaca orientiĝo

<11-20 >4±0,15°

Elektraj Parametroj

Dopanto

n-tipa Nitrogeno

Rezisteco

0,015-0,025ohm·cm

Mekanikaj Parametroj

Diametro

150.0±0.2mm

Dikeco

350±25 μm

Primara plata orientiĝo

[1-100]±5°

Primara plata longo

47.5±1.5mm

Malĉefa apartamento

Neniu

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm * 5mm)

≤5 μm (5mm * 5mm)

≤10 μm (5mm * 5mm)

Pafarko

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Varpi

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Fronto (Si-vizaĝo) krudeco (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Strukturo

Mikropipaj denseco

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Metalaj malpuraĵoj

≤5E10atomoj/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Antaŭa Kvalito

Fronto

Si

Surfaca finaĵo

Si-vizaĝo CMP

Partikloj

≤60ea/oblato (grandeco≥0.3μm)

NA

Gratoj

≤5ea/mm. Akumula longo ≤Diametro

Akumula longo ≤2 * Diametro

NA

Oranĝa ŝelo/fosaĵoj/makuloj/strioj/ fendoj/poluado

Neniu

NA

Randaj blatoj/indentaĵoj/frakturo/heksplatoj

Neniu

Politipaj areoj

Neniu

Akumula areo≤20%

Akumula areo≤30%

Fronta lasera markado

Neniu

Reen Kvalito

Malantaŭa fino

C-vizaĝo CMP

Gratoj

≤5ea/mm, Akumula longo≤2*Diametro

NA

Malantaŭaj difektoj (randaj blatoj/indentaĵoj)

Neniu

Dorsa malglateco

Ra≤0.2nm (5μm * 5μm)

Malantaŭa lasera markado

1 mm (de supra rando)

Rando

Rando

Chanfro

Pakado

Pakado

Epi-preta kun vakua pakado

Multi-oblata kaseda pakado

*Notoj: "NA" signifas neniun peton. Eroj ne menciitaj povas rilati al SEMI-STD.

tech_1_2_size
SiC-oblatoj

  • Antaŭa:
  • Sekva: