La Solida SiC Fokusa Ringo de Semicera estas avangarda komponanto desegnita por plenumi la postulojn de altnivela fabrikado de semikonduktaĵoj. Farita el alta purecoSilicio-karbido (SiC), ĉi tiu fokusa ringo estas ideala por larĝa gamo de aplikoj en la duonkondukta industrio, precipe enCVD SiC-procezoj, plasma akvaforto, kajICPRIE (Indukte Coupled Plasma Reactive Ion Etching). Konata pro ĝia escepta eluziĝorezisto, alta termika stabileco kaj pureco, ĝi certigas longdaŭran agadon en altstresaj medioj.
En duonkonduktaĵoolatoprilaborado, Solid SiC Focus Rings estas decidaj en konservado de preciza akvaforto dum seka akvaforto kaj oblataj akvafortaj aplikoj. La SiC-fokusringo helpas en enfokusigado de la plasmo dum procezoj kiel ekzemple plasmo akvaforta maŝinoperacioj, igante ĝin nemalhavebla por akvaforto de silicioblatoj. La solida SiC-materialo ofertas senekzemplan reziston al erozio, certigante la longvivecon de via ekipaĵo kaj minimumigante malfunkcion, kio estas esenca por konservi altan trairon en semikonduktaĵfabrikado.
La Solida SiC Fokusa Ringo de Semicera estas kreita por elteni ekstremajn temperaturojn kaj agresemajn kemiaĵojn ofte renkontitajn en la industrio de duonkonduktaĵoj. Ĝi estas specife kreita por uzo en altprecizaj taskoj kiel ekzempleCVD SiC tegaĵoj, kie pureco kaj fortikeco estas plej gravaj. Kun bonega rezisto al termika ŝoko, ĉi tiu produkto certigas konsekvencan kaj stabilan agadon sub la plej severaj kondiĉoj, inkluzive de eksponiĝo al altaj temperaturoj dumolatoakvafortaj procezoj.
En semikonduktaĵaj aplikoj, kie precizeco kaj fidindeco estas ŝlosilaj, la Solida SiC Fokusa Ringo ludas pivotan rolon por plibonigi la ĝeneralan efikecon de akvafortaj procezoj. Ĝia fortika, alt-efikeca dezajno faras ĝin la perfekta elekto por industrioj postulantaj altpurajn komponantojn, kiuj funkcias sub ekstremaj kondiĉoj. Ĉu uzata enCVD SiC ringoaplikoj aŭ kiel parto de la plasma akvaforta procezo, Solid SiC Focus Ring de Semicera helpas optimumigi la efikecon de via ekipaĵo, proponante la longvivecon kaj fidindecon, kiujn via produktada procezo postulas.
Ĉefaj Trajtoj:
• Supera eluziĝo-rezisto kaj alta termika stabileco
• Altpura Solida SiC-materialo por plilongigita vivdaŭro
• Ideala por plasma akvaforto, ICP RIE, kaj sekaj akvafortaj aplikoj
• Perfekta por oblato akvaforto, precipe en CVD SiC procezoj
• Fidinda agado en ekstremaj medioj kaj altaj temperaturoj
• Certigas precizecon kaj efikecon en akvaforto de siliciaj oblatoj
Aplikoj:
• CVD SiC-procezoj en semikonduktaĵfabrikado
• Plasma akvaforto kaj ICP RIE-sistemoj
• Seka akvaforto kaj oblataj akvafortaj procezoj
• Akvaforto kaj deponado en plasmaj akvafortaj maŝinoj
• Precizecaj komponantoj por oblaj ringoj kaj CVD SiC-ringoj
Mikroskopa morfologio de CVD SiC-surfaco
Mikroskopa morfologio de CVD SiC-sekco
