Nia kompanio provizasSiC tegaĵoprilabori servojn sur la surfaco de grafito, ceramikaĵo kaj aliaj materialoj per CVD-metodo, tiel ke specialaj gasoj enhavantaj karbonon kaj silicion povas reagi ĉe alta temperaturo por akiri altpurajn Sic-molekulojn, kiuj povas esti deponitaj sur la surfaco de tegitaj materialoj por formiSiC protekta tavolopor epitaksio barelo tipo hipnotika.
Ĉefaj trajtoj:
1 .Alta pureco SiC tegita grafito
2. Supera varmorezisto & termika unuformeco
3. BoneSiC kristala kovritapor glata surfaco
4. Alta fortikeco kontraŭ kemia purigado
Ĉefaj Specifoj deCVD-SIC Tegaĵo
| SiC-CVD Propraĵoj | ||
| Kristala Strukturo | FCC β-fazo | |
| Denso | g/cm³ | 3.21 |
| Malmoleco | Vickers-malmoleco | 2500 |
| Grajna Grandeco | μm | 2~10 |
| Kemia pureco | % | 99.99995 |
| Varmo Kapacito | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Temperaturo de sublimado | ℃ | 2700 |
| Feleksura Forto | MPa (RT 4-punkto) | 415 |
| Modulo de Young | Gpa (4pt-kurbo, 1300℃) | 430 |
| Termika Vastiĝo (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Termika kondukteco | (W/mK) | 300 |
