LaMOCVDmetodo estas unu el la plej stabilaj procezoj nuntempe uzataj en la industrio por kreskigi altkvalitajn unukristalajn maldikajn filmojn, kiel unufazajn InGaN-epitavolojn, III-N-materialojn kaj duonkonduktajn filmojn kun mult-kvantuma putostrukturoj, kaj estas de granda signifo en la fabrikado de duonkonduktaĵoj kaj optoelektronikaj aparatoj.
LaSiC tegaĵo MOCVD-susceptoroestas specialigita oblatposedanto kovrita per siliciokarbido (SiC) porepitaksia kresko en la procezo de metalorganika kemia vapordemetado (MOCVD).
La SiC-tegaĵo havas bonegan kemian reziston kaj termikan stabilecon, igante ĝin ideala elekto por MOCVD-susceptoroj uzataj en postulantaj epitaksiaj kreskprocezoj.
Ĉefkomponento de la MOCVD-procezo estas la susceptor, kiu estas ŝlosila elemento por certigi la unuformecon kaj kvaliton de la produktitaj maldikaj filmoj.
Kio estas susceptor? La susceptor estas specialeca komponento uzita en la MOCVD-procezo por apogi kaj varmigi la substraton sur kiu la maldika filmo estas deponita. Ĝi havas multoblajn funkciojn, inkluzive de absorbado de elektromagneta energio, konverti ĝin en varmegon kaj egale distribuante la varmegon sur la substrato. Ĉi tiu unuforma hejtado estas esenca por la kresko de unuformaj maldikaj filmoj kun preciza dikeco kaj komponado.
Tipoj de susceptoroj:
1. Grafitaj susceptoroj: Grafitaj susceptoroj ofte estas kovritaj per protekta tavolo kiel ekzemplesiliciokarbido (SiC), kiu estas konata pro sia alta varmokondukteco kaj stabileco. LaSiC tegaĵoprovizas malmolan, protektan surfacon, kiu rezistas korodon kaj degeneron ĉe altaj temperaturoj.
2. Silicikarbidoj (SiC) susceptoroj: Ĉi tiuj susceptoroj estas faritaj tute el SiC kaj havas bonegan termikan stabilecon kaj eluziĝoreziston. SiC-susceptoroj estas precipe taŭgaj por alt-temperaturaj procezoj kaj korodaj medioj.
Kiel susceptoroj funkcias en MOCVD:
En la MOCVD-procezo, antaŭuloj estas enkondukitaj en la reagkamero kie ili putriĝas kaj reagas por formi maldikan filmon sur la substrato. La susceptor ludas esencan rolon certigante, ke la substrato estas varmigita egale, kio estas kritika por atingi konsekvencajn filmajn trajtojn tra la tuta substratsurfaco. La materialo kaj dezajno de la susceptor estas zorge elektitaj por plenumi la specifajn postulojn de la demetprocezo, kiel temperatura gamo kaj kemia kongruo.
Avantaĝoj de uzado de altkvalitaj susceptoroj:
• Plibonigita filmo-kvalito: Provizante unuforman varmodistribuon, la susceptor helpas atingi filmojn kun konsekvenca dikeco kaj komponado, kio estas kritika por la agado de duonkonduktaĵoj.
• Plibonigita proceza efikeco: Altkvalitaj susceptoroj pliigas la ĝeneralan efikecon de la MOCVD-procezo reduktante la verŝajnecon de difektoj kaj pliigante la rendimenton de uzeblaj filmoj.
• Vivdaŭro kaj fidindeco: Susceptors faritaj el daŭraj materialoj kiel ekzemple SiC certigas longdaŭran fidindecon kaj reduktas bontenajn kostojn.
La susceptor estas integrita komponento en la MOCVD-procezo kaj rekte influas la kvaliton kaj efikecon de maldika filmdemetado. Por pliaj informoj pri disponeblaj grandecoj, MOCVD-subceptoj kaj prezoj, bonvolu ne hezitu kontakti nin. Niaj inĝenieroj volonte konsilos vin pri taŭgaj materialoj kaj respondos ĉiujn viajn demandojn.
Telefono: +86-13373889683
WhatsApp: +86-15957878134
Email: sales01@semi-cera.com
Afiŝtempo: Aŭg-12-2024